VeTek semiconductor er en ledende produsent av tantalkarbidbeleggmaterialer for halvlederindustrien. Våre hovedprodukttilbud inkluderer CVD-tantalkarbidbeleggdeler, sintrede TaC-beleggsdeler for SiC-krystallvekst eller halvlederepitaksiprosess. Bestått ISO9001, VeTek Semiconductor har god kontroll på kvalitet. VeTek Semiconductor er dedikert til å bli innovatør i tantalkarbidbeleggindustrien gjennom pågående forskning og utvikling av iterative teknologier.
Hovedproduktene erTaC-belagt styrering, CVD TaC-belagt styrering med tre kronblad, Tantalkarbid TaC-belagt halvmåne, CVD TaC-belegg planetarisk SiC epitaksial susceptor, Tantalkarbidbeleggring, Tantalkarbidbelagt porøs grafitt, TaC Coating Rotasjons Susceptor, Tantalkarbidring, TaC belegg rotasjonsplate, TaC-belagt wafer-susceptor, TaC-belagt deflektorring, CVD TaC beleggdeksel, TaC-belagt Chucketc., renheten er under 5 ppm, kan møte kundens krav.
TaC-beleggsgrafitt lages ved å belegge overflaten av et grafittsubstrat med høy renhet med et fint lag tantalkarbid ved en proprietær prosess for kjemisk dampavsetning (CVD). Fordelen er vist på bildet nedenfor:
Tantalkarbidbelegget (TaC) har fått oppmerksomhet på grunn av dets høye smeltepunkt på opptil 3880°C, utmerket mekanisk styrke, hardhet og motstand mot termiske støt, noe som gjør det til et attraktivt alternativ til sammensatte halvlederepitaksiske prosesser med høyere temperaturkrav, slik som Aixtron MOCVD-system og LPE SiC-epitaksiprosess. Den har også en bred anvendelse i PVT-metoden SiC-krystallvekstprosessen.
Nøkkelfunksjoner:
●Temperaturstabilitet
●Ultra høy renhet
●Motstand mot H2, NH3, SiH4,Si
●Motstand mot termisk lager
●Sterk vedheft til grafitt
●Konform beleggdekning
● Størrelse opptil 750 mm diameter (den eneste produsenten i Kina når denne størrelsen)
Søknader:
●Waferbærer
● Induktiv varmemottaker
● Resistivt varmeelement
●Satellitt disk
●Dusjhode
●Føringsring
●LED Epi-mottaker
●Injeksjonsdyse
●Maskeringsring
● Varmeskjold
Tantalkarbid (TaC) belegg på et mikroskopisk tverrsnitt:
Parameter for VeTek Semiconductor Tantalkarbidbelegg:
|
Fysiske egenskaper til TaC-belegg
|
|
Tetthet
|
14,3 (g/cm³)
|
|
Spesifikk emissivitet
|
0.3
|
|
Termisk ekspansjonskoeffisient
|
6,3 10-6/K
|
|
Hardhet (HK)
|
2000 HK
|
|
Motstand
|
1×10-5Ohm*cm
|
|
Termisk stabilitet
|
<2500℃
|
|
Grafittstørrelsen endres
|
-10~-20um
|
|
Beleggtykkelse
|
≥20um typisk verdi (35um±10um)
|
TaC-belegg EDX-data：
TaC belegg krystallstruktur data:
|
Element
|
Atomprosent
|
|
|
Pt. 1
|
Pt. 2
|
Pt. 3
|
Gjennomsnittlig
|
|
C K
|
52.10
|
57.41
|
52.37
|
53.96
|
|
M
|
47.90
|
42.59
|
47.63
|
46.04
|
