Nettmeny

Produktsøk

Språk

Produkter

Tantalkarbidbelegg

VeTek semiconductor er en ledende produsent av tantalkarbidbeleggmaterialer for halvlederindustrien. Våre hovedprodukttilbud inkluderer CVD-tantalkarbidbeleggdeler, sintrede TaC-beleggsdeler for SiC-krystallvekst eller halvlederepitaksiprosess. Bestått ISO9001, VeTek Semiconductor har god kontroll på kvalitet. VeTek Semiconductor er dedikert til å bli innovatør i tantalkarbidbeleggindustrien gjennom pågående forskning og utvikling av iterative teknologier.


Hovedproduktene erTaC-belagt styrering, CVD TaC-belagt styrering med tre kronblad, Tantalkarbid TaC-belagt halvmåne, CVD TaC-belegg planetarisk SiC epitaksial susceptor, Tantalkarbidbeleggring, Tantalkarbidbelagt porøs grafitt, TaC Coating Rotasjons Susceptor, Tantalkarbidring, TaC belegg rotasjonsplate, TaC-belagt wafer-susceptor, TaC-belagt deflektorring, CVD TaC beleggdeksel, TaC-belagt Chucketc., renheten er under 5 ppm, kan møte kundens krav.


TaC-beleggsgrafitt lages ved å belegge overflaten av et grafittsubstrat med høy renhet med et fint lag tantalkarbid ved en proprietær prosess for kjemisk dampavsetning (CVD). Fordelen er vist på bildet nedenfor:


Excellent properties of TaC coating graphite


Tantalkarbidbelegget (TaC) har fått oppmerksomhet på grunn av dets høye smeltepunkt på opptil 3880°C, utmerket mekanisk styrke, hardhet og motstand mot termiske støt, noe som gjør det til et attraktivt alternativ til sammensatte halvlederepitaksiske prosesser med høyere temperaturkrav, slik som Aixtron MOCVD-system og LPE SiC-epitaksiprosess. Den har også en bred anvendelse i PVT-metoden SiC-krystallvekstprosessen.


Nøkkelfunksjoner:

 ●Temperaturstabilitet

 ●Ultra høy renhet

 ●Motstand mot H2, NH3, SiH4,Si

 ●Motstand mot termisk lager

 ●Sterk vedheft til grafitt

 ●Konform beleggdekning

 ● Størrelse opptil 750 mm diameter (den eneste produsenten i Kina når denne størrelsen)


Søknader:

 ●Waferbærer

 ● Induktiv varmemottaker

 ● Resistivt varmeelement

 ●Satellitt disk

 ●Dusjhode

 ●Føringsring

 ●LED Epi-mottaker

 ●Injeksjonsdyse

 ●Maskeringsring

 ● Varmeskjold


Tantalkarbid (TaC) belegg på et mikroskopisk tverrsnitt:


the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating


Parameter for VeTek Semiconductor Tantalkarbidbelegg:

Fysiske egenskaper til TaC-belegg
Tetthet 14,3 (g/cm³)
Spesifikk emissivitet 0.3
Termisk ekspansjonskoeffisient 6,3 10-6/K
Hardhet (HK) 2000 HK
Motstand 1×10-5Ohm*cm
Termisk stabilitet <2500℃
Grafittstørrelsen endres -10~-20um
Beleggtykkelse ≥20um typisk verdi (35um±10um)


TaC-belegg EDX-data：

EDX data of TaC coating


TaC belegg krystallstruktur data:

Element Atomprosent
Pt. 1 Pt. 2 Pt. 3 Gjennomsnittlig
C K 52.10 57.41 52.37 53.96
M 47.90 42.59 47.63 46.04


View as  
 
Tantal karbidbelagt ring

Tantal karbidbelagt ring

Som en profesjonell innovatør og leder av Tantal karbidbelagte ringprodukter i Kina, spiller Vetek halvleder tantal karbidbelagt ring en uerstattelig rolle i SiC -krystallvekst med sin utmerkede høye temperaturmotstand, slitasje og utmerket varmeledningsevne. Velkommen din videre konsultasjon.
Se mer >> Send forespørsel >>
Porøs tantal karbid

Porøs tantal karbid

Vetek Semiconductor er en profesjonell produsent og leder av porøse Tantal -karbidprodukter i Kina. Porøs tantalkarbid er vanligvis produsert ved metode for kjemisk dampavsetning (CVD), noe som sikrer presis kontroll av dens porestørrelse og distribusjon, og er et materialverktøy dedikert til ekstreme miljøer med høy temperatur. Velkommen din videre konsultasjon.
Se mer >> Send forespørsel >>
TAC beleggsveiledning Ring

TAC beleggsveiledning Ring

VeTek Semiconductors TaC Coating Guide Ring er laget ved å påføre tantalkarbidbelegg på grafittdeler ved å bruke en svært avansert teknikk kalt kjemisk dampavsetning (CVD). Denne metoden er veletablert og tilbyr eksepsjonelle beleggegenskaper. Ved å bruke TaC Coating Guide Ring, kan levetiden til grafittkomponenter forlenges betydelig, bevegelsen av grafitturenheter kan undertrykkes, og SiC og AIN enkrystallkvaliteten kan opprettholdes pålitelig. Velkommen til å spørre oss.
Se mer >> Send forespørsel >>
Tantal karbidring

Tantal karbidring

Som en avansert produsent og produsent av tantal karbidringprodukter i Kina, har Vetek halvleder tantal karbidring ekstremt høy hardhet, slitasje, høy temperaturmotstand og kjemisk stabilitet, og er mye brukt i halvlederproduksjonsfeltet. Spesielt i CVD, PVD, ionimplantasjonsprosess, etsingsprosess og avveiebehandling og transport, er det et uunnværlig produkt for halvlederbehandling og produksjon. Ser frem til din videre konsultasjon.
Se mer >> Send forespørsel >>
Støtte for belegg av tantalkarbid

Støtte for belegg av tantalkarbid

Som en profesjonell Tantalum Carbide Coating Support-produktprodusent og fabrikk i Kina, brukes VeTek Semiconductor Tantalum Carbide Coating Support vanligvis til overflatebelegging av strukturelle komponenter eller støttekomponenter i halvlederutstyr, spesielt for overflatebeskyttelse av nøkkelutstyrskomponenter i halvlederproduksjonsprosesser som f.eks. CVD og PVD. Velkommen til din videre konsultasjon.
Se mer >> Send forespørsel >>
Tantal karbidveiledning Ring

Tantal karbidveiledning Ring

Vetek Semiconductor er en profesjonell produsent og leder av Tantalum Carbide Guide Ring -produkter i Kina. Vår tantal karbid (TAC) guide ring er en høyytelsesringskomponent laget av tantalkarbid, som ofte brukes i halvlederbehandlingsutstyr, spesielt i høye temperaturer og svært etsende miljøer som CVD, PVD, etsing og diffusjon. Vetek Semiconductor er opptatt av å tilby avansert teknologi og produktløsninger for halvlederindustrien, og ønsker dine videre henvendelser velkommen.
Se mer >> Send forespørsel >>
Som profesjonell Tantalkarbidbelegg produsent og leverandør i Kina har vi vår egen fabrikk. Enten du trenger tilpassede tjenester for å imøtekomme de spesifikke behovene i regionen din eller ønsker å kjøpe avansert og holdbar Tantalkarbidbelegg laget i Kina, kan du gi oss en melding.
Nyhetsanbefalinger
Materiale av silisiumkarbid epitaxy
Materiale av silisiumkarbid epitaxySe mer >>
Hva er den epitaksiale prosessen?
Hva er den epitaksiale prosessen?Se mer >>
Kjennetegn på silisium epitaxy
Kjennetegn på silisium epitaxySe mer >>
CHIP -produksjon: Deposition Atomic Layer (ALD)
CHIP -produksjon: Deposition Atomic Layer (ALD)Se mer >>
Hvordan velge MOCVD -grafittbrett?
Hvordan velge MOCVD -grafittbrett?Se mer >>
Silisiumkarbid nanomaterialer
Silisiumkarbid nanomaterialerSe mer >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept