CVD Tantalkarbid (TaC) belagt Susceptor

Nøkkelfunksjoner

Søknader

Typiske bruksområder inkluderer:

• SiC epitaksial vekst

• GaN MOCVD epitaksi

• AlN epitaksial vekst

• Tredje generasjons halvlederproduksjon

• Høyeffektelektronikk

• RF-enheter

• MicroLED-produksjon

• Forsknings- og pilotproduksjonssystemer

Kompatibelt utstyr

Kompatible plattformer inkluderer:

• Aixtron

• LPE

• Veeco

• AMEC

• NuFlare

• Tilpassede CVD- og MOCVD-reaktorer

Også tilgjengelig:

• Wafer Carriers

• Planetariske mottakere

• Tønnesusceptorer

• Rotasjonsskiver

• Halvmånedeler

• Dekkplater

• Grafittmonteringer

• Egendefinerte termiske feltkomponenter

Tekniske spesifikasjoner

Ofte stilte spørsmål

1. Hva er en CVD TaC-belagt susceptor?

En grafittkomponent med høy renhet beskyttet av et tett CVD TaC-belegg brukt som waferbærer under epitaksial vekst.

2. Hvorfor bruke TaC coating i stedet for SiC-belegg?

TaC gir høyere temperaturbestandighet, overlegen kjemisk stabilitet og lengre levetid.

3.Hvilke halvlederprosesser bruker TaC-coed susceptorer?

SiC-epitaksi, GaN MOCVD, AlN-epitaksi og andre høytemperatur-krystallvekstprosesser.

4. Kan VETEK produsere tilpassede susceptorer?

Ja. Vi tilbyr tilpassede design basert på kundetegninger og prosesskrav.

5. Hvilke reaktormerker støttes?

Aixtron, LPE, Veeco, AMEC, NuFlare og andre vanlige systemer.