Støttetjeneste

VeTek Semiconductor leverer høykvalitets Aluminium Nitride (AlN) enkeltkrystallskiver og substrater for neste generasjons ultra-brede båndgap halvlederenheter. Med et ultrabredt båndgap på omtrent 6,2 eV, enestående termisk ledningsevne, eksepsjonell elektrisk isolasjon og utmerket gitter- og termisk ekspansjonsmatch med GaN, er AlN-wafere ideelle for høyeffekts RF-enheter, høyspentstrømelektronikk og dyp-ultrafiolett (DUV) optoelektronikk.

VETEK Professional Cleaning Service for CVD SiC Coated Graphite Parts er en spesialisert teknisk tjeneste designet for Aixtron / Veeco MOCVD utstyrsmottakere og grafittkomponenter som brukes i GaN / AlN / AlGaN epitaksiale prosesser. Vår proprietære renseprosess eliminerer overflateminneeffekten grundig, gjenoppretter stabil gassstrøm i reaktoren og beskytter strengt det 100 µm CVD SiC-belegget med absolutt null tykkelsestap og null metallrester.

Ettersom etterspørselen etter MEMS-svingere med høy følsomhet og lav effekt vokser med utvidelsen av 5G-kommunikasjon, medisinsk presisjonsutstyr og smarte wearables, gir våre PZT på Si/SOI-wafere en kritisk materialløsning. Ved å bruke avanserte tynnfilmavsetningsprosesser som Sol-gel eller sputtering oppnår vi eksepsjonell konsistens og overlegen piezoelektrisk ytelse på silisiumsubstrater. Disse skivene tjener som den grunnleggende kjernen for elektromekanisk energikonvertering.

Silisiumkarbidkrystallvekst er en kjerneprosess i produksjonen av høyytelses halvlederenheter. Stabiliteten, presisjonen og kompatibiliteten til krystallvekstutstyr bestemmer direkte kvaliteten og utbyttet av silisiumkarbidblokker. Basert på egenskapene til Physical Vapor Transport (PVT) teknologi, har Veteksemi utviklet en motstandsvarmeovn for vekst av silisiumkarbidkrystaller, som muliggjør stabil vekst av 6-tommers, 8-tommers og 12-tommers silisiumkarbidkrystaller med full kompatibilitet med ledende, semi-isolerende materialesystemer og N-materialesystemer. Gjennom presis kontroll av temperatur, trykk og kraft, reduserer den effektivt krystalldefekter som EPD (Etch Pit Density) og BPD (Basal Plane Dislocation), samtidig som den har lavt energiforbruk og en kompakt design for å møte de høye standardene for industriell storskala produksjon.

CMP poleringsslurry (Chemical Mechanical Polishing Slurry) er et høyytelsesmateriale som brukes i halvlederproduksjon og presisjonsmaterialebehandling. Dens kjernefunksjon er å oppnå fin flathet og polering av materialoverflaten under den synergistiske effekten av kjemisk korrosjon og mekanisk sliping for å oppfylle kravene til flathet og overflatekvalitet på nanonivå. Ser frem til din videre konsultasjon.

Som en ledende kinesisk SIC Wafer -produsenter og leverandører, er Vetek Semiconductor CVD SIC Coating Dummy Wafer et spesialisert verktøy innen halvlederproduksjon, hovedsakelig brukt til formålet med silisium -tester og skivetestingsprosess. Dine videre henvendelser er velkomne.