Produkter

Veteksi solid SiC-fokusring forbedrer etsningsuniformiteten og prosessstabiliteten betydelig ved nøyaktig å kontrollere det elektriske feltet og luftstrømmen ved waferkanten. Den er mye brukt i presisjonsetseprosesser for silisium, dielektrikum og sammensatte halvledermaterialer, og er en nøkkelkomponent for å sikre masseproduksjonsutbytte og langsiktig pålitelig utstyrsdrift.

I de kritiske trinnene ved rengjøring av wafer, etsing og våtetsing, er et kvartsbad med høy renhet mer enn bare en beholder; det er den første forsvarslinjen for prosessuksess. Metallionforurensning, termisk sjokksprekking, kjemisk angrep og partikkelrester er skjulte årsaker til avlingssvingninger. Veteksemi er dypt forankret i kvarts av halvlederkvalitet. Hvert kvartsbad vi produserer er designet for å gi kompromissløs pålitelighet og renslighet for dine banebrytende prosesser.

Vårt robotarm for silisiumkarbid (SIC) er designet for håndtering av høy ytelse av avansert halvlederproduksjon. Denne robotarmen er laget av silisiumkarbid med høy renhet, og gir eksepsjonell motstand mot høye temperaturer, plasmakorrosjon og kjemisk angrep, noe som sikrer pålitelig drift i krevende miljøer i renrom. Den eksepsjonelle mekaniske styrken og dimensjonsstabiliteten muliggjør presis håndtering av wafer samtidig som forurensningsrisikoen minimerer, noe som gjør det til et ideelt valg for MOCVD, epitaxy, ionimplantasjon og andre kritiske wafer -håndtering av applikasjoner. Vi ønsker dine henvendelser velkommen.

Veteksemicon spesialiserer seg på å tilby tilpassede kvartsbåtprodukter for halvlederindustrien. Produktlinjen vår inkluderer halvleder smeltet kvartsglassbåter, kvartsdiffusjonsbåter og tilpassede kvartsglødende båter, mye brukt i høye presisjonsprosesser som diffusjon, oksidasjon og CVD. Veteksemicon insisterer på å tilby omfattende tilpassede tjenester av produkter og teknologier. Ser frem til din videre konsultasjon.

Veteksemicon Sic wafer-båter er mye brukt i kritiske høye temperaturprosesser i halvlederproduksjon, og tjener som pålitelige bærere for oksidasjon, diffusjon og annealingsprosesser for silisiumbaserte integrerte kretsløp. De utmerker seg også i tredje generasjons halvledersektor, perfekt egnet for krevende prosesser som epitaksial vekst (EPI) og metallorganisk kjemisk dampavsetning (MOCVD) for SIC- og GAN-strømenheter. De støtter også fabrikasjonen av høye temperaturer av solcelleceller med høy effektivitet i fotovoltaisk industri. Ser frem til din videre konsultasjon.

CVD SIC-belagte grafittdusjhode fra Veteksemicon er en høyytelseskomponent som er spesielt designet for halvlederkjemiske dampavsetning (CVD) prosesser. Produsert av grafitt med høy renhet og beskyttet med et kjemisk dampavsetning (CVD) silisiumkarbid (SIC) belegg, leverer dette dusjhodet enestående holdbarhet, termisk stabilitet og motstand mot etsende prosessgasser. Ser frem til din videre konsultasjon.