Nettmeny

Produktsøk

Språk

Produkter

Solid silisiumkarbid

Vetek halvleder fast silisiumkarbid er en viktig keramisk komponent i plasmaetsetingsutstyr, fast silisiumkarbid (CVD silisiumkarbid) Deler i etsningsutstyret inkludererfokuserer ringer, Gasdusjhode, brett, kantringer osv. På grunn av den lave reaktiviteten og konduktiviteten til fast silisiumkarbid (CVD -silisiumkarbid) til klor - og fluorholdig etsningsgass, er det et ideelt materiale for plasmaetsetingsutstyr som fokuserer ringer og andre komponenter.


For eksempel er fokusringen en viktig del som er plassert utenfor skiven og i direkte kontakt med skiven, ved å bruke en spenning på ringen for å fokusere plasma som passerer gjennom ringen, og dermed fokusere plasmaet på skiven for å forbedre ensartetheten i prosessering. Den tradisjonelle fokusringen er laget av silisium ellerkvarts, Ledende silisium som et vanlig fokusringmateriale, det er nesten nær konduktiviteten til silisiumskiver, men mangelen er dårlig etsemotstand i fluorholdig plasma, etsningsmaskindeler som ofte brukes i en periode, det vil være alvorlig korrosjonsfenomen, og alvorlig redusere produksjonseffektiviteten.


Solid sic fokusringArbeidsprinsipp：

Working Principle of Solid SiC Focus Ring


Sammenligning av SI -basert fokuseringsring og CVD SIC Focusing Ring ：

Sammenligning av SI -basert fokuseringsring og cvd sic fokuseringsring
Punkt Og CVD SIC
Tetthet (g/cm3) 2.33 3.21
Band Gap (EV) 1.12 2.3
Termisk konduktivitet (w/cm ℃) 1.5 5
CTE (x10-6/℃) 2.6 4
Elastic Modulus (GPA) 150 440
Hardness (GPA) 11.4 24.5
Motstand mot slitasje og korrosjon Fattig Glimrende


Vetek Semiconductor tilbyr avansert solid silisiumkarbid (CVD silisiumkarbid) deler som SIC -fokuseringsringer for halvlederutstyr. Vårt faste silisiumkarbidfokuseringsringer overgår tradisjonelt silisium når det gjelder mekanisk styrke, kjemisk motstand, termisk ledningsevne, holdbarhet med høy temperatur og ionetingmotstand.


Viktige funksjoner i våre SIC -fokuseringsringer inkluderer:

Høy tetthet for reduserte etsningshastigheter.

Utmerket isolasjon med et høyt bandgap.

Høy termisk ledningsevne og lavkoeffisient for termisk ekspansjon.

Overlegen mekanisk påvirkningsmotstand og elastisitet.

Høy hardhet, slitestyrke og korrosjonsmotstand.

Produsert ved bruk avPlasma-forbedret kjemisk dampavsetning (PECVD)Teknikker, våre SIC -fokuseringsringer oppfyller de økende kravene til etsingsprosesser i halvlederproduksjon. De er designet for å motstå høyere plasmakraft og energi, spesielt iKapasitive koblet plasma (CCP)systemer.

Vetek Semiconductors SIC -fokuseringsringer gir eksepsjonell ytelse og pålitelighet i produksjon av halvlederenheter. Velg våre SIC -komponenter for overlegen kvalitet og effektivitet.


View as  
 
SiC -belagt tønnemottar for LPE PE2061s

SiC -belagt tønnemottar for LPE PE2061s

Som en av de ledende wafer -mottorproduksjonsanleggene i Kina, har Vetek Semiconductor gjort kontinuerlige fremskritt i Wafer -sensorprodukter og har blitt det første valget for mange epitaksiale wafer -produsenter. SIC -belagte tønne -masceptor for LPE PE2061s levert av Vetek Semiconductor er designet for LPE PE2061S 4 '' skiver. Sosceptoren har et holdbart silisiumkarbidbelegg som forbedrer ytelsen og holdbarheten under LPE (flytende fase epitaxy) -prosessen. Velkommen din henvendelse, vi ser frem til å bli din langsiktige partner.
Se mer >> Send forespørsel >>
Solid SiC gassdusjhode

Solid SiC gassdusjhode

Solid SiC -gassdusjhode spiller en viktig rolle i å gjøre gassen uniform i CVD -prosessen, og dermed sikre ensartet oppvarming av underlaget. Vetek Semiconductor har vært dypt involvert innen solide SIC -enheter i mange år og er i stand til å gi kundene tilpassede solide SIC -gasdusjhoder. Uansett hva kravene dine er, ser vi frem til henvendelsen din.
Se mer >> Send forespørsel >>
Kjemisk dampavsetningsprosess Solid Sic Edge Ring

Kjemisk dampavsetningsprosess Solid Sic Edge Ring

Vetek Semiconductor har alltid vært forpliktet til forskning og utvikling og produksjon av avanserte halvledermaterialer. I dag har Vetek Semiconductor gjort store fremskritt i kjemisk dampavsetningsprosess Solid SiC Edge Ring -produkter og er i stand til å gi kundene svært tilpassede solide SIC -kantringer. Solide SIC -kantringer gir bedre etsnings ensartethet og presis plateposisjonering når de brukes med en elektrostatisk chuck, noe som sikrer konsistente og pålitelige etsningsresultater. Ser frem til din henvendelse og blir hverandres langsiktige partnere.
Se mer >> Send forespørsel >>
Solid SiC Etching Fokusering Ring

Solid SiC Etching Fokusering Ring

Solid SiC -etsningsfokuseringsring er en av kjernekomponentene i skivets etsningsprosess, som spiller en rolle i å fikse wafer, fokusere plasma og forbedre ensartet av skiven. Som den ledende SIC -fokuseringsprodusenten i Kina, har Vetek Semiconductor avansert teknologi og moden prosess, og produserer solid SIC -etsningsfokusering som fullt ut oppfyller behovene til sluttkunder i henhold til kundekrav. Vi ser frem til din henvendelse og blir hverandres langsiktige partnere.
Se mer >> Send forespørsel >>

Veteksemicon solid silicon carbide is the ideal procurement material for high-temperature, high-strength, and corrosion-resistant components used in semiconductor and industrial applications. As a fully dense, monolithic ceramic, solid silicon carbide (SiC) offers unmatched mechanical rigidity, extreme thermal conductivity, and exceptional chemical durability in harsh processing environments. Veteksemicon’s solid SiC is specifically developed for critical structural applications such as SiC wafer carriers, cantilever paddles, susceptors, and showerheads in semiconductor equipment.


Manufactured through pressureless sintering or reaction bonding, our solid silicon carbide parts exhibit excellent wear resistance and thermal shock performance, even at temperatures above 1600°C. These properties make solid SiC the preferred material for CVD/PECVD systems, diffusion furnaces, and oxidation furnaces, where long-term thermal stability and purity are essential.


Veteksemicon also offers custom-machined SiC parts, enabling tight dimensional tolerances, high surface quality, and application-specific geometries. Additionally, solid SiC is non-reactive in both oxidizing and reducing atmospheres, enhancing its suitability for plasma, vacuum, and corrosive gas environments.


To explore our full range of solid silicon carbide components and discuss your project specifications, please visit the Veteksemicon product detail page or contact us for technical support and quotations.


Som profesjonell Solid silisiumkarbid produsent og leverandør i Kina har vi vår egen fabrikk. Enten du trenger tilpassede tjenester for å imøtekomme de spesifikke behovene i regionen din eller ønsker å kjøpe avansert og holdbar Solid silisiumkarbid laget i Kina, kan du gi oss en melding.
Nyhetsanbefalinger
Hvor mye vet du om Sapphire?
Hvor mye vet du om Sapphire?Se mer >>
Termisk feltdesign for sic enkeltkrystallvekst
Termisk feltdesign for sic enkeltkrystallvekstSe mer >>
Hva er silisiumkarbidkrystallvekst?
Hva er silisiumkarbidkrystallvekst?Se mer >>
Forskning på SIC Wafer Carrier Technology
Forskning på SIC Wafer Carrier TechnologySe mer >>
Hva er den spesifikke anvendelsen av TAC -belagte deler i halvlederfeltet?
Hva er den spesifikke anvendelsen av TAC -belagte deler i halvlederfeltet?Se mer >>
Hvordan løse problemet med sintringssprekker i silisiumkarbidkeramikk? - VeTek halvleder
Hvordan løse problemet med sintringssprekker i silisiumkarbidkeramikk? - VeTek halvlederSe mer >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept