Nettmeny

Produktsøk

Språk

Produkter

Solid silisiumkarbid

VeTek Semiconductor Solid Silicon Carbide er en viktig keramisk komponent i plasmaetsingsutstyr, solid silisiumkarbid (CVD silisiumkarbid) deler i etseutstyret inkludererfokusringer, gassdusjhode, brett, kantringer osv. På grunn av den lave reaktiviteten og ledningsevnen til fast silisiumkarbid (CVD silisiumkarbid) til klor- og fluorholdige etsegasser, er det et ideelt materiale for plasmaetseutstyr som fokuserer ringer og andre komponenter.


For eksempel er fokusringen en viktig del plassert utenfor waferen og i direkte kontakt med waferen, ved å påføre en spenning på ringen for å fokusere plasmaet som passerer gjennom ringen, og derved fokusere plasmaet på waferen for å forbedre jevnheten av behandling. Den tradisjonelle fokusringen er laget av silisium elkvarts, ledende silisium som et vanlig fokusringmateriale, er det nesten nær ledningsevnen til silisiumskiver, men mangelen er dårlig etsemotstand i fluorholdig plasma, etsemaskindeler materialer som ofte brukes i en periode, vil det være alvorlig korrosjonsfenomen, noe som alvorlig reduserer produksjonseffektiviteten.


Soid SiC Focus RingArbeidsprinsipp：

Working Principle of Solid SiC Focus Ring


Sammenligning av Si-basert fokuseringsring og CVD SiC-fokusring:

Sammenligning av Si-basert fokusering og CVD SiC fokusring
Punkt Og CVD SiC
Tetthet (g/cm3) 2.33 3.21
Båndgap (eV) 1.12 2.3
Termisk ledningsevne (W/cm℃) 1.5 5
CTE (x10-6/℃) 2.6 4
Elastisk modul (GPa) 150 440
Hardhet (GPa) 11.4 24.5
Motstand mot slitasje og korrosjon Fattig Glimrende


VeTek Semiconductor tilbyr avanserte solid silisiumkarbid (CVD silisiumkarbid) deler som SiC fokusringer for halvlederutstyr. Våre fokuseringsringer av solid silisiumkarbid utkonkurrerer tradisjonell silisium når det gjelder mekanisk styrke, kjemisk motstand, termisk ledningsevne, holdbarhet ved høye temperaturer og motstand mot ioneetsing.


Nøkkelfunksjonene til våre SiC-fokusringer inkluderer:

Høy tetthet for reduserte etsehastigheter.

Utmerket isolasjon med høyt båndgap.

Høy varmeledningsevne og lav varmeutvidelseskoeffisient.

Overlegen mekanisk slagfasthet og elastisitet.

Høy hardhet, slitestyrke og korrosjonsbestandighet.

Produsert vhaplasmaforsterket kjemisk dampavsetning (PECVD)teknikker, møter våre SiC-fokusringer de økende kravene til etseprosesser i halvlederproduksjon. De er designet for å tåle høyere plasmakraft og energi, spesielt ikapasitivt koblet plasma (CCP)systemer.

VeTek Semiconductors SiC-fokusringer gir eksepsjonell ytelse og pålitelighet ved produksjon av halvlederenheter. Velg våre SiC-komponenter for overlegen kvalitet og effektivitet.


View as  
 
Kjemisk dampavsetningsprosess Solid Sic Edge Ring

Kjemisk dampavsetningsprosess Solid Sic Edge Ring

Vetek Semiconductor har alltid vært forpliktet til forskning og utvikling og produksjon av avanserte halvledermaterialer. I dag har Vetek Semiconductor gjort store fremskritt i kjemisk dampavsetningsprosess Solid SiC Edge Ring -produkter og er i stand til å gi kundene svært tilpassede solide SIC -kantringer. Solide SIC -kantringer gir bedre etsnings ensartethet og presis plateposisjonering når de brukes med en elektrostatisk chuck, noe som sikrer konsistente og pålitelige etsningsresultater. Ser frem til din henvendelse og blir hverandres langsiktige partnere.
Se mer >> Send forespørsel >>
Solid SiC Etching Fokusering Ring

Solid SiC Etching Fokusering Ring

Solid SiC -etsningsfokuseringsring er en av kjernekomponentene i skivets etsningsprosess, som spiller en rolle i å fikse wafer, fokusere plasma og forbedre ensartet av skiven. Som den ledende SIC -fokuseringsprodusenten i Kina, har Vetek Semiconductor avansert teknologi og moden prosess, og produserer solid SIC -etsningsfokusering som fullt ut oppfyller behovene til sluttkunder i henhold til kundekrav. Vi ser frem til din henvendelse og blir hverandres langsiktige partnere.
Se mer >> Send forespørsel >>
Som profesjonell Solid silisiumkarbid produsent og leverandør i Kina har vi vår egen fabrikk. Enten du trenger tilpassede tjenester for å imøtekomme de spesifikke behovene i regionen din eller ønsker å kjøpe avansert og holdbar Solid silisiumkarbid laget i Kina, kan du gi oss en melding.
Nyhetsanbefalinger
Semiconductor substrat wafer: Materialegenskaper til silisium, GaAs, SiC og GaN
Semiconductor substrat wafer: Materialegenskaper til silisium, GaAs, SiC og GaNSe mer >>
Påføring av TaC-belagte grafittdeler i enkeltkrystallovner
Påføring av TaC-belagte grafittdeler i enkeltkrystallovnerSe mer >>
Hva er en epitaksial ovn? - Vetek Semiconductor
Hva er en epitaksial ovn? - Vetek SemiconductorSe mer >>
Hva er en kvartsbåt?
Hva er en kvartsbåt?Se mer >>
Hvilke utfordringer står CVD TaC-beleggsprosessen for SiC-enkeltkrystallvekst overfor i halvlederbehandling?
Hvilke utfordringer står CVD TaC-beleggsprosessen for SiC-enkeltkrystallvekst overfor i halvlederbehandling?Se mer >>
Italias LPEs 200 mm SIC Epitaxial Technology Progress
Italias LPEs 200 mm SIC Epitaxial Technology ProgressSe mer >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept