Sic dusjhode

Vetek Semiconductor gir avansert SIC dusjhode til halvlederindustrien. Silisiumkarbidmaterialer har en unik kombinasjon av utmerkede termiske, elektriske og kjemiske egenskaper, noe som gjør dem ideelle for anvendelser i halvlederindustrien der materialer med høy ytelse er påkrevd. Vetek Semiconductor har lenge samlet erfaring med CVD Solid SIC -teknologi. Vetek Semiconductors revolusjonerende teknologi muliggjør produksjon av SIC dusjhode, et ultrahøy renhet silisiumkarbidmateriale laget gjennom prosessen med kjemisk dampavsetning.

Sic dusjhodet er en avgjørende komponent i halvlederproduksjon, spesielt designet for MOCVD -systemer, silisium epitaxy ogSicEpitaxy -prosesser. Laget av robustSolid silisiumkarbid (sic), Denne komponenten tåler de ekstreme forholdene for plasmabehandling og applikasjoner med høy temperatur.

Silisiumkarbid (sic)er kjent for sin høye termiske ledningsevne, kjemisk korrosjonsbestandighet og eksepsjonell mekanisk styrke, noe som gjør det til et ideelt materiale for bulk SIC -komponenter som SIC -dusjhodet. Gasdusjhodet sikrer til og med fordeling av prosessgasser over skiveoverflaten, noe som er essensielt for å produsere epitaksiale lag av høy kvalitet. Fokusringer og kantringer, ofte laget av CVD-SIC, opprettholder ensartet plasmafordeling og beskytter kammeret mot forurensning, og forbedrer effektiviteten og utbyttet av epitaksial vekst.

Med sin nøyaktige gasstrømningskontroll og enestående materialegenskaper, er SIC -dusjhodet en nøkkelkomponent i moderne halvlederbehandling, og støtter avanserte applikasjoner i silisium epitaxy og SiC epitaxy.

Vetek Semiconductor tilbyr en lav resistivitet sintret silisiumkarbid halvleder dusjhode. Vi har muligheten til å tilpasset ingeniør og forsyningAvanserte keramiske materialerBruke en rekke unike evner.