Halvleder keramisk munnstykke

Halvleder keramisk munnstykke spiller en viktig rolle iHDP-CVD-prosess, brukt til å kontrollere gasstrømmen nøyaktig og sikreFilmavsetning av høy kvalitet. Keramisk dysespray er nøyaktig konstruert for å sikre konsistente og kontrollerbare gasstrømningshastigheter, og minimerer mulig turbulens når gassen kommer inn i reaksjonskammeret.

Tekniske spesifikasjoner:

1.Materiell sammensetning:

VeTeK Semiconductor Keramiske sandblåsingsdyser er vanligvis laget av halvlederkeramikk som aluminiumoksid (Al2O3),silisiumkarbid (SiC)eller zirkoniumoksid (ZrO2), har disse materialene utmerkede egenskaper:

    • høy termisk stabilitet (tåler temperaturer over 1000 ℃)

    • Motstand mot korrosjon ved reaktive gasser brukt iCVD-prosesser(som silan, ammoniakk)

    • motstand mot kontinuerlig plasmaeksponering.

2. Strukturell design:

    • Størrelse på åpningen: Åpningen til den keramiske halvledermunnstykket er vitenskapelig utformet for å muliggjøre presis kontroll av gassstrømmen, som igjen påvirker jevnheten og tykkelsen på filmen.

    • Vinkler og geometrier: Nøyaktig utformet for å sikre jevn gassfordeling over underlaget, og minimere defekter i det avsatte laget.

I halvlederindustrien spiller halvleder keramisk eksplosjonsdyse en nøkkelrolle først og fremst i HDP-CVD-prosessen. De brukes også til å avsette tynne filmer for produksjon av mikroelektronikk, noe som sikrer overflatebelegg av høy kvalitet som er ensartede og fri for forurensninger.

Vetek Semiconductor keramiske dysebutikker: