Høyrent silisiumkarbid (SiC) pulver

Nøkkelfunksjoner
• Renhet kan gå opp til 99,9999 % – det er 6N

• Metallurenheter holdes lavt

• GDMS-testdata er tilgjengelig på forespørsel

• Sublimeringsadferd forblir konsistent fra batch til batch

• Mindre risiko for kontaminering under behandling

• Partikkelstørrelsesfordeling er kontrollert

• Du kan også be om tilpassede partikkelstørrelser

• Kvalitetskontroll følger standarder av halvlederkvalitet

Partikkelstørrelsesområde:

Pulverrenhet: 

Tekniske spesifikasjoner:

Søknader

• SiC Single Crystal Growth (PVT)

• Ledende og halvisolerende SiC-substrater

• Halvledermaterialer

• Avansert keramikk

• Forskning og utvikling

Hvorfor velge VeTek Semiconductor?

• Avansert renseteknologi

• Kvalitetskontroll i halvlederkvalitet

• Tilpassede partikkelstørrelsesalternativer

• Stabil og pålitelig forsyning

• Teknisk støtte for krystallvekstapplikasjoner