Nyheter

De fire kraftigste grafittprodusentene i verden - Vetek

SGL, Toyo Tanso, Tokai Carbon, Mersen og andre grafittmerker er nå relativt utmerkede grafittprodusenter, og er entusiastisk etterspurt av produsenter i halvleder, fotovoltaiske og andre felt. Derfor er det nødvendig å kjenne deres kjerneprodukter.


SGLs typiske grafitt- og applikasjonsområder :


● R8500 -serien: Brukes i fotovoltaikk, halvledere og prosessering av høy temperatur.

●  R7300 -serien: Høy renhet, spesielt egnet for halvlederapplikasjoner.

●  R6500 -serien: Utmerket ytelse, egnet for forskjellige applikasjoner med høy temperatur, høy belastning og høye presisjon. Hovedsakelig brukt i halvlederproduksjon, fotovoltaisk industri, metallurgi og andre felt med høy temperatur.


Tekniske parametere :


R8510
R6510
R7300
R8500
R8710
Gjennomsnittlig kornstørrelse um
10 10 20 10 3
Bulk tetthet g/cm³
1.77 1.83 1.73 1.77 1.8
Åpen porøsitet Vol.%
14 10 14 14 10
Medium pore inngangsdiameter um
1.8 1.8 1.6 1.8 0.6
Permeabilitetskoeffisient (omgivelsestemperatur) CM2/s
0.25 0.06 0.1 0.25 0.01
Rockwell Hardness Hr₅/₁₀₀
70 85 75 70 105
Resistivitet µωm
14 12 16 14 13
Bøyningsstyrke MPA
50 60 40 50 85
Trykkstyrke MPA
110 130 85 110 170
Dynamisk modul av elastisitet MPA
10,5 x 10³
11,5 x 10³
10 x 10³
10,5 x 10³
10,5 x 10³
Termisk ekspansjon (20 - 200 ° C) K⁻⁻
4.2 x
4.2 x 2,7 x 4.2 x 4,7 x
Termisk konduktivitet (20 ° C) WM⁻k⁻⁻
95 110 70 95 105
Ashinnhold ppm
200 / 200 200 200

Toyo Tansos typiske grafitt- og applikasjonsområder :


 IG -serien: Isostatisk grafitt, mye brukt i halvleder, fotovoltaisk, metallurgi, kjemisk industri og annen høye temperaturer og høye presisjonsfelt

 Navneserie: Høy ytelse isostatisk grafitt, mye brukt i EDM, muggproduksjon, halvleder og solcellefelt

 ISO -serien: Høy ytelse isostatisk grafitt, hovedsakelig for industrielle applikasjoner som krever høy renhet, høy styrke og høy temperaturmotstand

●  TTK -serien: For EDM, muggproduksjon og andre høye presisjonsbehandlingsfelt

 HPG -serie: Egnet for utstyr og komponenter under høye presisjons- og tøffe forhold, spesielt innen elektronikk, halvleder, solcelle- og andre bransjer


Tekniske parametere :

Karakter
IG-11
IG-70
Navn-1
Navn-8
ISO-63
TTK-55
HPG-30
HPG-59
Bulk tetthet
Mg/m3
1.77 1.83 1.68 1.78 1.78 1.8 1.8 1.91
Hardhet
HSD
51 58 45 63 76 73 74 88
Elektrisk resistivitet
μω ・ m
11 10 13.5 13.4 15 15.3 15.3 13.5
Bøyestyrke
MPA
39 47 36 52 65 63 65 100
Trykkstyrke
MPA
78 103 69 106 135 139 142 210
Strekkfasthet
MPA
25 31 20 34 46 48 50 74
Youngs modul
GPA
9.8 11.8 8.8 10.1 12 11.2 11.3 12.7
Termisk ekspansjonskoeffisient
10-6/K
4.5 4.6 4.2 5.6 5.6 5.6 5.6 5.7
Termisk konduktivitet
W/(m ・ k)
120 130 90 90 70 86 86 95

Tokais typiske grafitt- og applikasjonsområder :


 HK1: Grov maskinering av store muggdijer og støpende applikasjoner.

 HK2: Grodd ut og etterbehandling av middels til liten høy nøyaktighet, skarp definisjon av mugg og presseverktøy.

●  HK3: HK-3 er en fremste karakter av ultra-fin grafitt, best brukt der ultrahøy definisjon og utmerket kantlitemotstand er kritisk, dvs. muggproduksjon av høy kvalitet, luftfartsindustri og fine detaljerte ribbeformer. God MRR -rate/slitasjeforhold.

●  HK-75: HK-75 er ultra-fin grafittgrad og brukes her høye overflatebehandlinger og god kantlitasjeforhold er kritiske. Det gir også enkle maskineringsegenskaper med høy definisjon på hjørner og profiler. Det brukes best i den høye kvaliteten på formproduksjonsprosessen.


Tekniske parametere :

Karakter

HK-1
HK-2
HK-3
HK-75
Spesifikk tyngdekraft
g/cm3
1.85
1.82 1.84 1.82
Spesifikk motstand
μω ・ m
11 13.5 15.5 16.5
Bøyestyrke MPA 50 64 88 66
Hardhet
Land
58 64 78 72
Gjennomsnittlig kornstørrelse
μm
11 7 2 4

Mersens typiske grafitt- og applikasjonsområder :


●  Isostatisk grafitt: Egnet for CVD -komponenter og digler i halvleder- og solcelleindustrien. Så vel som produksjonskomponenter for monokrystallinsk og polykrystallinsk silisium, spesielt i miljøer med høy temperatur.

●  Ellor+ Series: Høy ledningsevne, slitasjebestandig, høy utladningseffektivitet, egnet for høy finish overflatebehandling, presisjonsform prosessering.


Tekniske parametere :

Karakter

Isostatisk grafitt 1940
Isostatisk grafitt 2910
Ellor+18
Ellor+50

GJENNOMSNITTLIGKornstørrelse

μm
/ / 12 5
Tetthet
g/cm3
1.79 1.74 1.78 1.86
Hardhet
Land
63 55 62 80

BøyningSTYRKE

MPA
43 30 45 76

ElektriskMotstand

μohm.cm
1397 1600 1370 1370


Relaterte nyheter
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept