Silisiumkarbidbelegg

Som en avansert SIC -tetningsdelproduktprodusent og fabrikk i Kina. Vetek Semiconducto Sic tetningsdel er en høyytelsesforseglingskomponent som er mye brukt i halvlederbehandling og andre ekstreme høye temperaturer og høye trykkprosesser. Velkommen din videre konsultasjon.

Som en ledende produsent og leverandør av silisiumkarbid -wafer chuck -produkter i Kina, spiller Vetek Semiconductors silisiumkarbid wafer chuck en uerstattelig rolle i den epitaksiale vekstprosessen med sin utmerkede høye temperaturmotstand, kjemisk korrosjonsresistens og termal sjokkmotstand. Velkommen din videre konsultasjon.

Silisiumkarbiddusjhode har utmerket toleranse med høy temperatur, kjemisk stabilitet, termisk ledningsevne og god gassfordelingsytelse, som kan oppnå ensartet gassfordeling og forbedre filmkvaliteten. Derfor brukes det vanligvis i høye temperaturprosesser som kjemisk dampavsetning (CVD) eller fysisk dampavsetning (PVD) prosesser. Velkommen din videre konsultasjon til oss, Vetek Semiconductor.

Som en profesjonell produsent av silisiumkarbidforsegling og fabrikk i Kina, er Vetek halvleder silisiumkarbidforseglingsring mye brukt i halvlederbehandlingsutstyr på grunn av den utmerkede varmebestandigheten, korrosjonsmotstanden, mekanisk styrke og termisk ledningsevne. Det er spesielt egnet for prosesser som involverer høy temperatur og reaktive gasser som CVD, PVD og plasma -etsing, og er et sentralt materialvalg i halvlederproduksjonsprosessen. Dine videre henvendelser er velkomne.

Vetek Semiconductor er en profesjonell produsent og leder av SIC -belagte Wafer Holder -produkter i Kina. SIC -belagt waferholder er en waferholder for epitaksiprosessen i halvlederbehandling. Det er en uerstattelig enhet som stabiliserer skiven og sikrer den ensartede veksten av det epitaksiale laget. Velkommen din videre konsultasjon.

Vetek Semiconductor er en profesjonell produsent og fabrikk i Kina. EPI Wafer -innehaver er en wafer -holder for epitaksiprosessen i halvlederbehandling. Det er et sentralt verktøy for å stabilisere skiven og sikre jevn vekst av det epitaksiale laget. Det er mye brukt i epitaxy -utstyr som MOCVD og LPCVD. Det er en uerstattelig enhet i epitaxy -prosessen. Velkommen din videre konsultasjon.