Produkter
Solid SiC Etching Fokusering Ring
  • Solid SiC Etching Fokusering RingSolid SiC Etching Fokusering Ring
  • Solid SiC Etching Fokusering RingSolid SiC Etching Fokusering Ring
  • Solid SiC Etching Fokusering RingSolid SiC Etching Fokusering Ring

Solid SiC Etching Fokusering Ring

Solid SiC -etsningsfokuseringsring er en av kjernekomponentene i skivets etsningsprosess, som spiller en rolle i å fikse wafer, fokusere plasma og forbedre ensartet av skiven. Som den ledende SIC -fokuseringsprodusenten i Kina, har Vetek Semiconductor avansert teknologi og moden prosess, og produserer solid SIC -etsningsfokusering som fullt ut oppfyller behovene til sluttkunder i henhold til kundekrav. Vi ser frem til din henvendelse og blir hverandres langsiktige partnere.

VeTek Semiconductor har gjort store fremskritt innen CVD Solid SiC-teknologi og er nå i stand til å produsere Solid SiC Etching Focusing Ring med verdensledende nivå. VeTek Semiconductors Solid SiC Etching Focusing Ring er et silisiumkarbidmaterialeprodukt med ultrahøy renhet laget gjennom prosessen med kjemisk dampavsetning.

Solid SiC -etsningsfokuseringsring brukes i halvlederproduksjonsprosesser, spesielt i plasmaetsetingssystemer. SIC -fokusringen er en avgjørende komponent som hjelper til med å oppnå presis og kontrollert etsing av silisiumkarbid (SIC) skiver.


Under plasma -etsingsprosessen spiller fokusringen flere roller som følger:

● Fokuserer plasmaet: Den solide SiC-etsingsfokuseringsringen hjelper til med å forme og konsentrere plasmaet rundt waferen, og sikrer at etseprosessen skjer jevnt og effektivt. Det bidrar til å begrense plasmaet til ønsket område, og forhindrer etsing eller skade på de omkringliggende områdene.

●  Beskyttelse av kammerveggene: Fokuseringsringen fungerer som en barriere mellom plasmaet og kammerveggene, og forhindrer direkte kontakt og potensiell skade. SiC er svært motstandsdyktig mot plasmaerosjon og gir utmerket beskyttelse for kammerveggene.

●  Ttemperaturkontroll: Den sic fokusringen hjelper til med å opprettholde jevn temperaturfordeling over waferen under etseprosessen. Det hjelper til med å spre varme og forhindrer lokal overoppheting eller termiske gradienter som kan påvirke etseresultatene.


Solid SiC Etching Focusing Ring in Plasma Etching Equipment


Solid SiC er valgt for fokusringer på grunn av sin enestående termiske og kjemiske stabilitet, høye mekaniske styrke og motstand mot plasmaerosjon. Disse egenskapene gjør SiC til et egnet materiale for de tøffe og krevende forholdene inne i plasmaetsesystemer.


Det er verdt å merke seg at utformingen og spesifikasjonene til fokusringene kan variere avhengig av det spesifikke plasmaetsesystemet og prosesskravene. VeTek Semiconductor optimerer formen, dimensjonene og overflateegenskapene til fokusringene for å sikre optimal etseytelse og lang levetid. Solid SiC er mye brukt for waferbærere, susceptorer, dummy wafer, guideringer, deler for etseprosesser, CVD-prosess, etc.


Produktparameter for den solide SiC Etching Focus Ring


Fysiske egenskaper til fast SiC
Tetthet 3.21 g/cm3
Elektrisitetsresistivitet 102 Ω/cm
Bøyestyrke 590 MPA (6000 kgf/cm2)
Youngs modul 450 GPA (6000 kgf/mm2)
Vickers hardhet 26 GPA (2650 kgf/mm2)
C.T.E. (RT-1000℃) 4.0 x10-6/K
Termisk konduktivitet (RT) 250 W/mk


Forhandler halvleder


Veteksemi Solid SiC Etching Focusing Ring shops


Hot Tags: Solid SiC Etching Fokusering Ring
Send forespørsel
Kontaktinfo
For spørsmål om silisiumkarbidbelegg, tantalkarbidbelegg, spesialgrafitt eller prisliste, vennligst legg igjen din e-post til oss, så tar vi kontakt innen 24 timer.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept