Produkter

Vetek Semiconductor tilbyr porøs Sic keramisk chuck som er mye brukt i wafer -prosesseringsteknologi, overføring og andre lenker, egnet for liming, skribent, lapp, polering og andre lenker, laserbehandling. Vår porøse SiC keramiske chuck har ultra-sterkt vakuumadsorpsjon, høy flathet og høy renhet oppfyller behovene til de fleste halvlederindustrier. Velkommen til å undersøke oss.

Den CVD SiC-belagte RTP-susceptoren fra VeTek Semiconductor betjener utstyr for rask termisk prosessering (RTP) og rask termisk utglødning (RTA) som brukes gjennom halvlederproduksjon. Substratet er maskinert av isostatisk grafitt med høy renhet, over hvilken et tett CVD-silisiumkarbid (SiC)-lag er avsatt. Denne konstruksjonen gir høy varmeledningsevne, robust kjemisk treghet og vedvarende dimensjonsstabilitet under gjentatt sykling ved høye temperaturer.

TAC-belegg brukes foreløpig hovedsakelig i prosesser som silisiumkarbid enkeltkrystallvekst (PVT-metode), epitaksial disk (inkludert silisiumkarbid epitaxy, LED-epitaxy), etc. kombinert med den gode langsiktige stabiliteten til TAC-beleggplaten, har veteker. Vi ser frem til at du blir vår langsiktige partner.

Som en kjerneforbruk i halvlederproduksjonsprosessen, spiller porøs grafitt en uerstattelig rolle i flere koblinger som krystallvekst, doping og annealing. Som en profesjonell produsent av porøs grafitt, er Vetek Semiconductor forpliktet til å tilby porøse grafittprodukter av høy kvalitet til konkurransedyktige priser, velkommen til din videre henvendelse.

GaN på SIC Epi -sensekter spiller en viktig rolle i halvlederbehandling gjennom den utmerkede termiske konduktiviteten, høye temperaturprosesseringsevnen og kjemisk stabilitet, og sikrer den høye effektiviteten og materialkvaliteten til GAN ​​-epitaksial vekstprosess. Vetek Semiconductor er en profesjonell produsent av Kina av GaN på SiC Epi -sensekteren, vi ser oppriktig frem til din videre konsultasjon.

CVD TAC -beleggbærer er hovedsakelig designet for den epitaksiale prosessen med halvlederproduksjon. CVD TAC-beleggbærers ultrahøye smeltepunkt, utmerket korrosjonsmotstand og enestående termisk stabilitet bestemmer uunnværligheten til dette produktet i halvleder epitaksial prosess. Velkommen din videre henvendelse.