Grafittpulver med høy renhet

Vetek Semiconudctor gir høyrent grafittpulver med høy renhet og tilpasset partikkelstørrelse for forskjellige bransjer, inkludert halvlederapplikasjoner.

Grafitt siltig myk, svartgrå; Fettete, kan forurense papiret. Hardheten er 1 ~ 2, og hardheten kan økes til 3 ~ 5 langs vertikal retning med økningen av urenheter. Egenvekten er 1,9 til 2,3. Under betingelse av isolering av oksygen er smeltepunktet over 3000 ° C, som er et av de høytemperaturbestandige mineralene.

Vetek semiconductors grafittpulver med høy renhet er et høykvalitetsprodukt med en renhet på opptil 5 ppm. Vi kontrollerer strengt urenhetsinnholdet i materialene våre for å sikre at de oppfyller de høyeste industristandardene. Vårt grafittpulver kan tilpasses i henhold til partikkelmorfologi, noe som gir større fleksibilitet i bruk. Det brukes hovedsakelig til syntese av silisiumkarbidpulver og diamantsyntese. Den høye renheten og den nøyaktige partikkelstørrelsesfordelingen til produktene våre gjør dem ideelle for kunder innen halvleder-, elektronikk- og høyteknologisk industri.

Vetek semiconductor har alltid levert fine pulvere med sin ekstremt høye renhet og utmerkede høye krystallinitet, som spiller en rolle i flere bransjer, spesielt halvlederindustrien. Pulverproduktene våre tilbyr et bredt spekter fra 1 til 100 mikron kvaliteter, og inkluderer 99,999 % ultrahøy renhet for å møte kundenes grunnleggende bruksområder på alle felt.

Fint pulver produseres gjennom et integrert produksjonssystem fra råvareforedling til ferdig produkt, og drar full nytte av det nyeste banebrytende produksjonsutstyret og vår unike prosesseringsteknologi på høyt nivå. Under enhetlig produksjonsstyring knuses råmaterialene til nivåer på 1 til 100 mikron, avhengig av bruken, gjennom ultrafint slipe- og sorteringsutstyr. Gjennom sorteringsprosessen lages råvarer til sofistikerte produkter.

Høyrent grafittpulver har god kjemisk stabilitet. Med god korrosjonsmotstand, god termisk ledningsevne og lav permeabilitet, er det mye brukt i produksjon av varmevekslere, reaksjonstanker, kondensatorer, forbrenningstårn, absorpsjonstårn, kjølere, varmeovner, filtre, pumper og annet utstyr.

På grunn av den lille termiske ekspansjonskoeffisienten av grafittpulver, og termiske sjokkendringer kan oppstå, brukes det vanligvis i krystallvekstovner, som monokrystallinsk silisium, regionale raffineringsbeholdere, brakettfester, induksjonsvarmer, etc., blir behandlet fra grafitt med høy renhet. I tillegg kan grafitt også brukes som vakuumsmeltende grafittisolasjonsplate og base, høytemperaturovnsrør, stang, plate, gitter og andre komponenter.

VeTek Semiconductor Produksjonsbutikk: