Aluminiumoksydkeramikk

1. Utmerkede isolerende egenskaper: 

Keramisk aluminiumoksyd har høy resistivitet og utmerkede isolerende egenskaper, kan effektivt isolere og beskytte halvlederenheter, forhindre gjeldende lekkasje og interferens i kretsen, for å sikre utstyrets stabilitet og pålitelighet.

2. Utmerket høye temperaturmotstand: 

Aluminiumoksydkeramikk er i stand til å fungere stabilt i miljøer med høy temperatur, og kan vanligvis tåle temperaturer på hundrevis av grader Celsius, noe som er veldig viktig for halvlederutstyr som krever langvarig høye temperaturoperasjon av komponentene.

3. God kjemisk stabilitet: 

Keramisk aluminiumoksyd har god kjemisk treghet, syre og alkali og andre kjemikalier har en høy resistens mot korrosjon, noe som gjør det i halvlederproduksjonsprosessen er ikke lett å bli erodert kjemisk, for å opprettholde den langsiktige stabiliteten til utstyret og levetiden.

4. Utmerkede mekaniske egenskaper: 

Til tross for at de er et keramisk materiale, har keramisk aluminiumoksyd også relativt høy mekanisk styrke og hardhet, og er i stand til å tåle en viss grad av fysisk påvirkning og stress, noe som er spesielt egnet for halvlederutstyrskomponenter som krever høy presisjon og høy stabilitet.

5. God prosessbarhet og presisjon: 

Aluminiumoksydkeramikk kan støpes, sintres og behandles til komplekse former og presise størrelser av komponenter med høy overflatefinish, egnet for fremstilling av halvlederutstyr i pakkesubstratet, isolasjonslaget og andre nøkkelkomponenter.

Bruksområdene til Veteksemicons aluminiumoksyd keramiske materialer i sol- og halvlederindustrien inkluderer hovedsakelig:

1.

Aluminiumoksydkeramikk har utmerket kjemisk stabilitet, termisk stabilitet, mekaniske egenskaper og elektriske egenskaper, noe som gjør aluminiumoksydkeramikk effektivt som beskyttelsesmaterialer for å beskytte utstyr mot kjemisk, termisk, mekanisk og elektrisk skade, og sikrer langvarig stabil drift og effektiv drift av utstyret.

2. Plasmautstyr

Aluminiumoksydkeramikk har utmerket høy temperaturmotstand, kjemisk stabilitet, elektrisk isolasjon og gode mekaniske egenskaper, så de er mye brukt som strukturelle materialer og beskyttelsesmaterialer i plasmautstyr for å sikre stabil og pålitelig drift av utstyr i komplekse arbeidsmiljøer.

3. Wafer -poleringsprosess

Keramisk aluminiumoksyd har høy hardhet og god termisk stabilitet og elektrisk isolasjon, så de er veldig egnet som polering av skivematerialer i poleringsprosesser av skiven. Keramisk aluminiumoksyd kan beskytte skiver mot mekanisk slitasje og kjemisk erosjon, og dermed forbedre nøyaktigheten og stabiliteten til polering.