Aluminiumnitrid (AlN) keramisk elektrostatisk chuck

1.Fordeler

• Høyrent AlN-keramikk med varmeledningsevne opptil ~180 W/m·K for effektiv varmeoverføring og temperaturensartethet

• Sterk elektrisk isolasjon og høy volumresistivitet som støtter stabil fastspenning ved 1–3 kV (høyere spenning tilgjengelig)

• Egendefinerte dielektriske lagmaterialer og elektrodeoppsett: Coulomb eller Johnsen–Rahbek (JR); enkelt- eller flersone

• Rask klem- og avklemmingsytelse, vanligvis under 0,1 sekund

• Fordypningsmikrostrukturer på overflaten ned til ~300 μm diameter, reduserer kontaktarealet til så lavt som ~1 %

• Høy flathet evne; typisk global flathet i størrelsesorden 0,5–3 μm PV for 300 mm-klasseplattformer

• Tett mikrostruktur med nesten null vannabsorpsjon og god kjemikaliebestandighet for prosessmiljøer

2.Typiske applikasjoner

Aluminiumnitrid keramiske elektrostatiske chucker brukes i prosesstrinn som krever både sikker waferholding og kontrollert termisk oppførsel:

• Tørr plasmaetsing (ICP / RIE) og relaterte kammerprosesser

• CVD, PEALD, termisk ALD og andre tynnfilmavsetningsstadier

• Gløde- og termiske prosessmoduler som krever jevn wafertemperatur

• Inspeksjons-, metrologi- og presisjonstrinn der lav partikkel og stabil fastspenning er kritisk

3.AlN materialkvaliteter – typiske egenskaper

VeTek tilbyr flere aluminiumnitridkvaliteter for å balansere termisk ledningsevne, mekanisk styrke og kostnad for ESC-design:

Enheter: Termisk ledningsevne i W/(m·K); dielektrisk styrke i kV/mm; volumresistivitet i Ω·cm (25 °C); dielektrisk konstant ved 1 MHz. Verdiene er typiske og kan variere med prosess og delgeometri.

4.Typiske ESC-designparametre

5.Hvorfor Choose VeTek AlN elektrostatiske chucker?

VeTek Semiconductor integrerer avansert AlN-keramikk med presisjons-ESC-produksjon for halvlederkunder som trenger både termisk ytelse og pålitelig fastspenning:

• Flere AlN-kvaliteter med termisk ledningsevne fra ~90 til ~180 W/m·K for å matche prosess termiske budsjetter

• Fleksibel elektrode og dielektrisk design for Coulomb- eller JR-klemming

• Tett kontroll over flathet, overflatemikrostruktur og elektrisk isolasjonsytelse

• Full livssyklusstøtte: design, nybygg og oppussing på flere nivåer

For etsing, avsetning og termisk verktøy som er avhengig av jevn wafertemperatur og ren, repeterbar fastspenning, gir VeTek Aluminium Nitride Ceramic Electrostatic Chucks en høyytelses keramisk plattform støttet av applikasjonsfokusert ingeniørstøtte.