Veeco MOCVD -varmeapparatet

Veteksemis Veeco MOCVD-varmeapparat er laget av grafittmateriale med høy renhet med urenhetsinnhold strengt kontrollert under 5 ppm, og belagt med ultrahøy renhet silisiumkarbid (sic) med en renhet på mer enn 99.99995% gjennom enKjemisk dampavsetning (CVD) prosess. Denne kombinasjonen av materialer gir varmeren en serie nøkkelegenskaper som sikrer dens utmerkede ytelse iMetall organisk kjemisk dampavsetning (MOCVD)behandle.

En av de enestående egenskapene til VEECO MOCVD-varmeren er dens ekstraordinære kjemiske renhet. Grafittkjernen med høy renhet reduserer i stor grad den potensielle introduksjonen av forurensninger i høytemperaturprosessen, og sikrer en ultra-ren filmavsetningsprosess. DeCvd sic belegggir ekstra beskyttelse for varmeren, og danner en sterk barriere for å forhindre kjemiske reaksjoner som kan skade filmkvaliteten. Denne enestående renheten er avgjørende for å produsere høyytelses, pålitelige halvlederenheter.

Samtidig viser varmeren ekstremt høy termisk stabilitet og effektivitet. SIC har et høyt smeltepunkt og utmerket varmeledningsevne, slik at varmeapparatet effektivt kan håndtere og gjennomføre varme. Dette sikrer ensartet oppvarming over underlaget, noe som igjen bidrar til å oppnå ensartet filmavsetning og redusere defekter forårsaket av termiske gradienter. Slik termisk effektivitet er spesielt viktig for presisjonsproduksjon.

Veeco MOCVD -varmeren utmerker seg også med elektrisk ytelse. Den grafittkjernen med høy renhet har utmerket elektrisk ledningsevne, slik at varmeapparatet kan håndtere høye krav til elektrisk belastning. Denne stabile elektriske ytelsen gjør at varmeren kan opprettholde presis temperaturkontroll og avsetningshastighet under høye belastningsforhold, noe som er avgjørende for å sikre konsistente prosessforhold og forbedre halvlederproduksjonseffektiviteten.

Overflatedesignen til varmeren er nøye optimalisert for å ha høy substratemissivitet, noe som forbedrer effektiviteten av strålingsvarmeoverføring betydelig. Evnen til å varme jevnt er en nøkkelfaktor for å sikre konsistent filmavsetningstykkelse og egenskaper. Overflatedesignet med høy emissivitet forbedrer også den generelle termiske effektiviteten til varmeren, og reduserer dermed energiforbruket og reduserer driftskostnadene.

Når det gjelder holdbarhet, viser Veteksemis Veeco MOCVD -varmeapparat utmerket korrosjonsmotstand, oksidasjonsmotstand og mekanisk styrke. CVD SIC -belegg gir en solid barriere for de korrosive gassene og kjemikaliene som er vanlige i MOCVD -prosesser, og forlenger dermed utstyret til utstyret og reduserer vedlikeholdsbehov og erstatningskostnader. Oksidasjonsmotstanden sikrer at varmeren forblir stabil ved høye temperaturer uten ytelsesforringelse, noe som sikrer langsiktig stabilitet.

I tillegg gjør den høye mekaniske styrken til VeTeksemis MOCVD-varmer den i stand til å motstå de fysiske påkjenningene som genereres under termisk sykling og underlagshåndtering. Dens robusthet reduserer risikoen for mekanisk feil og sikrer pålitelig drift av utstyret under tøffe prosessforhold.

Som en avansert produsent og leverandør av VEECO MOCVD varmeovnsprodukter tilbyr VeTeksemi også en rekke høykvalitets varmeovnsprodukter som f.eks.TAC beleggvarmer, silisiumkarbid keramisk belegg grafittvarmer, keramisk belegg av silisiumkarbid, etc. VeTek Semiconductor er forpliktet til å tilby avansert og tilpassbar teknologi og produktløsninger for halvlederindustrien. Vi håper inderlig å være din langsiktige partner i Kina.