Halvleder kvartsbad

Det halvleders kvartsbad er designet for rengjøring og prosessering av silisiumskiver og er mye brukt i halvledere, fotovoltaikk og andre felt. Kvartsbadet for halvleder er laget av kvartsmateriale med høy renhet, har utmerket høy temperaturmotstand og kjemisk stabilitet, og kan fungere stabilt i høye temperaturer og høye korrosjonsmiljøer. Enten det er å rengjøre store skiver med en diameter på 300 mm eller tilpassede krav til andre spesifikasjoner, kan halvlederkvartsbadet gi effektive og pålitelige løsninger for å styrke produksjonslinjen.

Halvleder kvartsbad Produktfunksjoner

1.

● Plasser til 50 skiver: Standardutformingen av halvlederkvartsbadet støtter rengjøring av opptil 50 skiver samtidig, noe som forbedrer rengjøringseffektiviteten.

● Kompatibel med flere størrelser: støtter skiver med en maksimal diameter på 300 mm, og kan også tilpasses etter behov. Andre størrelser, for eksempel 150 mm eller 200 mm, kan imøtekomme behovene til forskjellige prosessstrømmer.

● Modulær design: Passer for silisiumskiverav forskjellige spesifikasjoner, støtter rask bytte og reagerer fleksibelt på forskjellige rengjøringsoppgaver.

2.

● Høy temperaturmotstand: Kvartsmateriale tåler temperaturområdet 0 ° C til 1200 ° C, egnet for en rekke termiske rengjørings- og varmebehandlingsprosesser.

● Korrosjonsmotstand:Kvartstankkan motstå korrosjonen av sterke syrer (som HF, HCl) og sterke alkalier i lang tid, og er spesielt egnet for sirkulasjonsbehandling av kjemiske etseløsninger eller rengjøringsløsninger.

● Høy renslighet: Den indre veggoverflaten til halvlederkvarts tank er glatt og har ingen porer, og vil ikke adsorbere partikler eller kjemiske rester, og effektivt unngå chip -forurensning.

3. Fleksibel tilpasning for å oppfylle forskjellige prosessbehov

● Tilpasning av størrelse: Juster størrelsen, dybden og kapasiteten til badekaret i henhold til brukeren må støtte rengjøringsbehovene til spesielle brikkspesifikasjoner.

● Støtte for automatisert integrasjon: Kompatibel med industrielt automatiseringsutstyr for å oppnå helautomatisert drift av CHIP -rengjøring.

4.

● Presis sveising og prosessering: Bruk avansert prosesseringsteknologi for å sikre stabilitet og forsegling av utstyret under miljø med høyt temperatur og høyt trykk.

● Holdbar design: Etter flere holdbarhetstester, sørg for at utstyret fungerer som før under langvarig bruk av høy frekvens.

● Høy pålitelighet: Unngå riper, brudd eller kryssforurensning av skiver under rengjøring, og forbedre avkastningen.

Semiconductor Quartz Bath Tekniske parametere

Gjeldende scenarier for kvartsbad for halvleder

1. Halvlederindustri

● Rengjøring av silisiumskive: Brukes til å fjerne partikler, oksidlag og organiske rester på overflaten av skiven.

● Etsing av flytende behandling: Samarbeid med kjemisk etsingsprosess for å fjerne materialer nøyaktig i bestemte områder.

2. Fotovoltaisk industri

● Rengjøring av solceller: Fjern miljøgifter som genereres under produksjonsprosessen og forbedre konverteringseffektiviteten til cellen.

3. Vitenskapelige forskningseksperimenter

● Materialvitenskap: Egnet for rengjøring av eksperimentelle prøver med høy renhet.

● Mikro-nano-prosessering: Støtter en rekke eksperimentelle utstyr og prosessstrømmer.

Det halvleder Kvartsbadproduksjonsbutikker