Annen halvlederkeramikk

VeTek Semiconductor tilbyr et omfattende utvalg av halvlederkeramikk for forbedret prosessering. Våre silisiumkarbidbelegg er kjent for sin tetthet, høy temperaturbestandighet og kjemisk motstand, noe som gjør dem ideelle for ulike stadier av halvlederproduksjon. Disse beleggene brukes i halvlederwafer-behandling og fabrikasjon, noe som sikrer effektivitet og pålitelighet.

I tillegg tilbyr vi annen halvlederkeramikk:

Kvarts: Kvarts viser utmerket høytemperaturstabilitet, kjemisk treghet og optisk gjennomsiktighet. Den finner brede anvendelser innen halvlederproduksjon, inkludert fotolitografi, kjemisk dampavsetning (CVD) og fysisk dampavsetning (PVD). Kvartssubstrater, rør og vinduer spiller kritiske roller i halvlederproduksjonsprosessen.

Aluminiumoksidkeramikk: Aluminiumoksidkeramikk tilbyr enestående isolasjonsegenskaper, høytemperaturstabilitet og kjemisk treghet. De brukes ofte i halvlederutstyr for komponenter som isolatorer, pakninger, emballasje og underlag. Den høye isolasjonen og motstanden mot høye temperaturer til aluminiumoksidkeramikk gjør dem til viktige materialer i halvlederproduksjon.

Bornitridkeramikk: Bornitridkeramikk viser utmerket termisk ledningsevne, høy hardhet og kjemisk treghet. De er mye brukt i høytemperaturmiljøer i halvlederproduksjon, for eksempel gløding, varmebehandling og pakking. Bornitridkeramikk brukes ofte til produksjon av armaturer, varmeelementer, kjøleribber og underlag.

Zirconia: Zirconia er et keramisk materiale med høy styrke, høy hardhet og varmebestandig. Den har eksepsjonell kjemisk stabilitet og gode isolasjonsegenskaper. I halvlederproduksjon brukes zirkonium ofte til fremstilling av isolasjonskomponenter, vinduer og sensorer i høytemperaturmiljøer. På grunn av sin utmerkede termiske ledningsevne og lave dielektriske tap, er zirkoniumoksid også mye brukt i RF- og mikrobølgeenheter.

Silisiumnitrid: Silisiumnitrid er et høytemperatur- og korrosjonsbestandig keramisk materiale med utmerket mekanisk styrke og termisk ledningsevne. Det brukes ofte i halvlederproduksjon for kritiske komponenter som tynnfilminnkapsling, isolasjonslag, sensorer og avstandsstykker. Silisiumnitrid viser enestående isolasjonsegenskaper og kjemisk stabilitet, noe som muliggjør stabil drift i høye temperaturer og tøffe miljøer. I tillegg gjør dens lave dielektriske konstant og lave dielektriske tap den til et ideelt valg for høyfrekvente elektroniske enheter og mikroelektronisk emballasje.

Hos VeTek Semiconductor er vi forpliktet til å levere andre halvlederkeramikk av høy kvalitet som oppfyller de krevende kravene til industrien.