MOCVD EPI SUSCEPTER

Semicon'SMOCVD EPI SUSCEPTERer en kjernekomponent. I forberedelsesprosessen med halvlederenheter,MOCVD EPI SUSCEPTERer ikke bare en enkel varmeplattform, men også et presisjonsprosessverktøy, som har stor innvirkning på kvaliteten, veksthastigheten, enhetligheten og andre aspekter ved tynne filmmaterialer.

Den spesifikke bruken avMOCVD EPI SUSCEPTERI halvlederbehandling er som følger:

● Substratoppvarming og ensartethetskontroll:

MOCVD Epitaxy -sensekter brukes til å gi jevn oppvarming for å sikre stabil temperatur av underlaget under epitaksial vekst. Dette er viktig for å oppnå halvkvalitets halvlederfilmer og sikre konsistens i tykkelse og krystallkvalitet på epitaksiale lag over underlaget.

● Støtte for kjemisk dampavsetning (CVD) reaktorkamre:

Som en viktig komponent i CVD -reaktoren, støtter SSECTOR avsetningen av organiske metallforbindelser på underlag. Det hjelper til å konvertere disse forbindelsene nøyaktig til solide filmer for å danne de ønskede halvledermaterialene.

● Fremme gassfordeling:

Utformingen av sensekteren kan optimalisere strømningsfordelingen av gasser i reaksjonskammeret, og sikre at reaksjonsgassen kontakter underlaget jevnt, og dermed forbedrer ensartetheten og kvaliteten på epitaksiale filmer.

Du kan være trygg på å kjøpe tilpassetMOCVD EPI SUSCEPTERFra oss ser vi frem til å samarbeide med deg. Hvis du vil vite mer informasjon, kan du konsultere oss umiddelbart, og vi vil svare deg i tide!

Grunnleggende fysiske egenskaper ved CVD SIC -belegg:

Produksjonsbutikker:

Oversikt over halvlederbrikken Epitaxy Industry Chain：