Høy renhet kvarts wafer Carrier

1. Nøkkelfunksjoner og fordeler

• Ultra-høy renhet dehydroksylert smeltet kvarts (SiO₂ ≥ 99,999%) med metallurenheter kontrollert ved ppb-nivåer – minimerer waferforurensning

• Langsiktig driftstemperatur opp til 1100 °C; kortvarig toppmotstand til 1200 °C

• Utmerket termisk støtmotstand og dimensjonsstabilitet under hyppig temperatursykling

• Sterk kjemisk inertitet mot oksiderende prosessgasser og vanlige våtprosesskjemikalier (HF, H₂O₂, syrer/alkalier)

• Høy flathet og presisjonsslipt overflate med avrundede kanter for jevn waferstøtte og redusert kantskader

• Lavvakuumavgassing og lav overflateadsorpsjon – egnet for presisjonsvakuumprosesser

• Fullt tilpassbare strukturer: solide bærere, perforerte/ventilerte design, trinnvise lokaliseringsfunksjoner, posisjoneringshull, flerpunktsstøtter og fortykkede antideformasjonsdesign for 2–12 tommers wafere

2. Typiske applikasjoner

Disse bærerne brukes overalt hvor wafere trenger ren, formstabil støtte under forhøyet temperatur eller aggressiv kjemi:

• Diffusjons- og glødeovnsbelastning

• PECVD og LPCVD film vekst prosessstøtte

• Vakuumkammer og høytemperatur prosessverktøy

• Post-etsing tørking og våtrens stasjonsbærere

• SiC og GaN termisk prosessering av kraftenheter

• Optoelektronisk substrathåndtering og termiske laboratorieverktøy

3. Viktige tekniske parametere

• Grunnmateriale: dehydroksylert smeltet kvarts av halvlederkvalitet, SiO₂ ≥ 99,999 %

• Kompatible waferstørrelser: 2, 4, 6, 8 og 12 tommer (Si, SiC, GaN, safir)

• Anbefalt kontinuerlig temperaturområde: −20 °C til 1100 °C; kortvarig topp opp til ca. 1200 °C

• Produksjonsrute: forming i ett stykke, presisjonsoverflatesliping, kantavrunding, spenningsavlastende utglødning og ultraren sluttrengjøring

• Tilgjengelige konfigurasjoner: solid, ventilert/perforert, trinnvis lokalisering, hullmønstret og helt tilpassede geometrier

• Ytelsesfokus: høy renhet, termisk stabilitet, korrosjonsbestandighet, flathet på overflaten, lav utgassing og langsiktig dimensjonsretensjon

• Tilpasningsomfang: ytre dimensjoner, tykkelse, støttegeometri, hulllayout og spesialfunksjoner basert på kundetegninger

4. Hvorfor velge VeTek High Purity Quartz Wafer Carriers?

Som en profesjonell produsent av halvlederkvartskomponenter tilbyr VeTek Semiconductor:

• High Purity Quartz Wafer Carriers konstruert for termiske, vakuum- og våte prosessmiljøer

• Streng renhetskontroll, flathet og renhet egnet for avansert halvlederproduksjon

• Full tilpasning og OEM-kompatible design for verktøy for ovn, kammer og prosessstasjon

• Komplementære halvlederkvartsprodukter inkludert ovnsrør, waferbåter, digler og andre prosesskomponenter

Våre High Purity Quartz Wafer Carriers bidrar til å opprettholde jevn termisk kontakt, reduserer partikkel- og metallforurensning og forlenger verktøyets levetid under kontinuerlige høytemperatur- og korrosive prosessforhold – noe som støtter høyere utbytte og lavere eierkostnader i halvlederproduksjon.