Produkter

Produkter

View as  
 
Grafitt termisk felt

Grafitt termisk felt

Hos Vetek Semiconductor er termiske grafittfelt omhyggelig utformet for å møte de strenge standardene til solcelleindustrien, noe som sikrer optimal ytelse og effektivitet på tvers av ulike applikasjoner. Vi er dedikert til å produsere høyytelses grafitt termiske felt som tilbyr eksepsjonell kvalitet og kostnadseffektivitet. Ikke nøl med å kontakte oss for tekniske spørsmål eller pris.
Trekk silisiumkrystalljigg

Trekk silisiumkrystalljigg

Trekk silisiumkrystalljiggen er designet for å sikre renheten til skiver og presis kontroll av varme soner under krystallisering, og tilbyr bærekraftige og effektive løsninger for den solcelleindustrien. VetekSemicon ser frem til å sette langsiktig samarbeid med deg.
Crucible for monokrystallinsk silisium

Crucible for monokrystallinsk silisium

Det termiske feltet til monokrystal silisiumovn bruker grafitt som digel, og bruker varmer, guide ring, brakett og gryteholder laget av isostatisk presset grafitt for å sikre styrken og renheten til grafittgruppen. Vetek Semiconductor produserer digel for monokrystallinsk silisium, lang levetid, høy renhet, velkommen til å konsultere oss.
SiC Coating Susceptor

SiC Coating Susceptor

Vetek Semiconductor fokuserer på forskning og utvikling og industrialisering av CVD SiC-belegg og CVD TaC-belegg. Ved å ta SiC belegg susceptor som et eksempel, er produktet svært behandlet med høy presisjon, tett CVD SIC belegg, høy temperaturbestandighet og sterk korrosjonsbestandighet. Din henvendelse til oss er velkommen.
CVD SIC -blokk for SIC -krystallvekst

CVD SIC -blokk for SIC -krystallvekst

CVD SIC -blokk for SIC -krystallvekst, er en ny råstoff med høy renhet utviklet av Vetek Semiconductor. Den har et høyt inngangsforhold og kan vokse høykvalitets silisiumkarbidkrystaller i stor størrelse, som er et andre generasjons materiale for å erstatte pulveret som brukes i markedet i dag. Velkommen til å diskutere tekniske problemer.
Sic Crystal Growth New Technology

Sic Crystal Growth New Technology

Vetek Semiconductors ultrahøye renhet silisiumkarbid (SIC) dannet ved kjemisk dampavsetning (CVD) anbefales for å brukes som kildemateriale for dyrking av silisiumkarbidkrystaller ved fysisk damptransport (PVT). I SIC Crystal Growth New Technology blir kildematerialet lastet inn i en digel og sublimert på en frøkrystall. Bruk CVD-SIC-blokker med høy renhet for å være som en kilde for voksende SIC-krystaller. Velkommen til å etablere et partnerskap med oss.
X
Vi bruker informasjonskapsler for å gi deg en bedre nettleseropplevelse, analysere nettstedstrafikk og tilpasse innhold. Ved å bruke denne siden godtar du vår bruk av informasjonskapsler.Personvernerklæring