AMAT Cover Top Quartz 8" PCII (0200-00218) er en kvartskomponent med høy renhet designet for Applied Materials Endura PVD-kamre, og gir utmerket forurensningskontroll, plasmastabilitet og forlenget levetid. Konstruert for 200 mm halvlederprosesser, fungerer den som et kritisk element i den beskyttende og isolerende delen av kammeret. Vetek Semiconductor tilbyr presisjonsproduserte, OEM-kompatible kvartsdeler med pålitelig ytelse og global forsyningskapasitet.
AMAT Cover Top Quartz 8-tommers PCII (delnr. 0200-00218) er en høyrent kvartskomponent designet for bruk i 200 mm (8-tommers) PVD-prosesskamre, spesielt kompatibel med Applied Materials Endura®-plattformen (PCII-kammer).
Produsert av smeltet kvarts med ultrahøy renhet, spiller denne komponenten en kritisk rolle for å opprettholde et rent og stabilt avsetningsmiljø ved å minimere forurensning og sikre konsistent plasmaadferd.
Hos Vetek Semiconductor tilbyr vi presisjonskonstruerte kvartsdeler med streng materialkontroll og dimensjonsnøyaktighet, og tilbyr pålitelige alternativer for halvlederfabrikker og utstyrsleverandører.
Nøkkelspesifikasjoner:
Produktnavn
Dekk Topp kvarts
Delenummer
0200-00218
Wafer størrelse
8 tommer (200 mm)
Materiale
Fused Quartz med høy renhet
Søknad
PVD (Physical Vapor Deposition)
Kompatibelt utstyr
Applied Materials Endura® (PCII Chamber)
Behandle Søknad & Kammerstilling
Dette kvartsdekselet er spesielt designet for PVD-forstøvningsprosesser, mye brukt i halvlederproduksjon for tynnfilmavsetning av metall som aluminium (Al), titan (Ti) og kobber (Cu).
Kammerposisjon
Komponenten er installert i den øvre delen av PVD-kammeret, ofte referert til som toppdekselregionen, hvor den er utsatt for:
● Plasmautladningssoner
● Prosessgassstrømningsbaner
● Metallpartikkelavsetningsmiljøer
Funksjonell rolle i salen
Innenfor kammerstrukturen fungerer Cover Top Quartz som en ikke-metallisk beskyttende barriere og isolerende element, plassert over waferen og nær målområdet.
Plasseringen er avgjørende for:
● Beskytter sensitive kammerkomponenter mot metallavsetning
● Vedlikehold av elektrisk isolasjon i RF-plasmamiljøer
● Støtter stabile og repeterbare prosessforhold
Kjernefunksjoner og ytelsesfordeler
1) Kontamineringskontroll
Under PVD-prosesser har sputterte metallatomer en tendens til å avsettes ikke bare på wafere, men også på indre kammeroverflater.
Dette kvartsdekselet:
● Fungerer som et offerbeskyttende lag
● Forhindrer metalloppbygging på kritiske kammerstrukturer
● Reduserer partikkelgenerering og krysskontaminering
Resultat: Forbedret waferutbytte og prosessrenslighet
2) Plasmastabilitet og elektrisk isolasjon
Takket være dens utmerkede dielektriske egenskaper sikrer kvarts med høy renhet:
● Stabil RF-feltfordeling
● Redusert risiko for elektrisk interferens
● Konsekvent plasmatetthet på tvers av prosesssykluser
Resultat: Forbedret filmuniformitet og repeterbarhet
3) Overlegen materialrenhet
Vetek Semiconductor bruker kvartsmaterialer med ultrahøy renhet for å minimere innføring av urenheter.
● Lite metallisk forurensning
● Minimal avgassing under vakuumforhold
● Egnet for avanserte halvledernoder
Resultat: Oppfyller strenge renslighetsstandarder på utmerket nivå
4) Utmerket plasma- og termisk motstand
Komponenten er konstruert for å tåle:
● Plasmaerosjon og ionebombardement
● Gjentatt termisk sykling
Resultat: Lengre levetid og redusert vedlikeholdsfrekvens
5) Kostnadseffektiv design av forbruksvarer
Som et utskiftbart kammerforbruksmateriale, denne delen:
● Beskytter kostbar maskinvare
● Forenkler vedlikeholdssykluser
● Senker totale eierkostnader (TCO)
Hvorfor velge Vetek Semiconductor?
Hos Vetek Semiconductor kombinerer vi materialvitenskapelig ekspertise med halvlederprosessforståelse for å levere høyytelses kvartskomponenter.
Våre fordeler:
● Presisjonsbearbeiding med stramme toleranser
● Strengt råvarevalg og sporbarhet
● Påvist kompatibilitet med AMAT Endura-plattformer
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Vi bruker informasjonskapsler for å gi deg en bedre nettleseropplevelse, analysere nettstedstrafikk og tilpasse innhold. Ved å bruke denne siden godtar du vår bruk av informasjonskapsler. Personvernerklæring