ICP/PSS etseprosess

VeTek Semiconductor ICPPSS (Inductively Coupled Plasma Photoresist Stripping) Etsingsprosess Wafer Carrier er spesielt utviklet for å møte de krevende kravene til halvlederindustriens etseprosesser. Med sine avanserte funksjoner sikrer den optimal ytelse, effektivitet og pålitelighet gjennom hele etseprosessen.

Fordelen med VeTek Semiconductor ICP/PSS Etching Process Susveptors:

Forbedret kjemisk kompatibilitet: Waferbæreren er konstruert ved bruk av materialer som viser utmerket kjemisk kompatibilitet med etseprosessens kjemi. Dette sikrer kompatibilitet med et bredt spekter av etsemidler, resist strippere og rengjøringsløsninger, og minimerer risikoen for kjemiske reaksjoner eller kontaminering.

Høy temperaturmotstand: Waferbæreren er designet for å tåle høye temperaturer som oppstår under etseprosessen. Den opprettholder sin strukturelle integritet og mekaniske styrke, og forhindrer deformasjon eller skade selv under ekstreme termiske forhold.

Overlegen etsenhet: Bæreren har en nøyaktig konstruert design som fremmer jevn fordeling av etsemidler og gasser over waferoverflaten. Dette resulterer i konsekvente etsehastigheter og høykvalitets, ensartede mønstre, avgjørende for å oppnå presise og pålitelige etseresultater.

Utmerket wafer-stabilitet: Bæreren har en sikker wafer-holdemekanisme som sikrer stabil plassering og forhindrer wafer-bevegelse eller glidning under etseprosessen. Dette garanterer nøyaktige og repeterbare etsemønstre, og minimerer defekter og avlingstap.

Renromskompatibilitet: Waferbæreren er designet for å møte strenge renromsstandarder. Den har lav partikkelgenerering og utmerket renslighet, og forhindrer partikkelforurensning som kan kompromittere kvaliteten og utbyttet av etseprosessen. Urenheten er under 5 ppm.

Robust og holdbar konstruksjon: Bæreren er konstruert ved hjelp av materialer av høy kvalitet kjent for deres holdbarhet og lange levetid. Den tåler gjentatt bruk og strenge rengjøringsprosesser uten å gå på akkord med ytelsen eller strukturell integritet.

Tilpassbar design: Vi tilbyr tilpassbare alternativer for å møte spesifikke kundekrav. Bæreren kan skreddersys for å imøtekomme forskjellige waferstørrelser, tykkelser og prosessspesifikasjoner, noe som sikrer kompatibilitet med ulike etseutstyr og prosesser.

Opplev påliteligheten og ytelsen til vår ICP/PSS Etching Process Wafer Carrier, designet for å optimalisere etseprosessen i halvlederindustrien. Dens forbedrede kjemiske kompatibilitet, motstand mot høye temperaturer, overlegen etseuniformitet, utmerket waferstabilitet, renromskompatibilitet, robust konstruksjon og tilpassbar design gjør den til det ideelle valget for dine etseapplikasjoner.

PSS Etseplate ICP Etseplate ICP-etsemottaker