Aixstron MOCVD -supporter

Følgerne produsert avDet halvlederer laget av grafittsubstrat og silisiumkarbid (SIC) beleggmateriale. Gitt høyere slitestyrke, korrosjonsmotstand og ekstremt høy hardhet av SIC -materiale, er den spesielt egnet for bruk i tøffe prosessmiljøer. Derfor kan mottakerne produsert av Vetek Semiconductor brukes direkte i MOCVD-prosesser med høy temperatur uten ytterligere overflatebehandling.

SOSSECTORS er viktige komponenter i halvlederproduksjon, spesielt i MOCVD -utstyr for tynnfilmavsetningsprosesser. Hovedrollen tilAixtron: Så støtteni MOCVD-prosessen er å bære halvlederskiver, sikre jevn og høykvalitets avsetning av tynne filmer ved å gi jevn varmefordeling og reaksjonsmiljø, og dermed oppnå høykvalitets tynnfilmproduksjon.

Aixtron MOCVD-reseptorbrukes vanligvis til å støtte og fikse basen til halvlederskiver for å sikre at skiven er under deponeringsprosessen. Samtidig er overflatebelegget til Aixstron MOCVD -masceptor laget av silisiumkarbid (SIC), et sterkt termisk ledende materiale. SIC-belegget sikrer ensartet temperatur på overflaten av skiven, og ensartet oppvarming er avgjørende for å få filmer av høy kvalitet.

DessutenAixtron MOCVD-reseptorVi produserer skuespill en større rolle i å kontrollere strømmen og fordelingen av reaktive gasser gjennom optimalisert utforming av materialer. Unngå virvelstrømmer og temperaturgradienter for å oppnå ensartet filmavsetning.

Enda viktigere, i MOCVD -prosessen har silisiumkarbid (SIC) beleggmateriale korrosjonsmotstand, såDet halvleder'sAixtron MOCVD-reseptortåler også høye temperaturer og etsende gasser.

Grunnleggende fysiske egenskaper vedSic belegg:

VeTek Semiconductor Wafer Båtbutikker:

Oversikt over halvlederbrikken Epitaxy Industry Chain: