Produkter

Silisiumkarbidbelegg

VeTek Semiconductor spesialiserer seg på produksjon av ultrarene silisiumkarbidbeleggprodukter, disse beleggene er designet for å påføres renset grafitt, keramikk og ildfaste metallkomponenter.


Våre belegg med høy renhet er primært rettet mot bruk i halvleder- og elektronikkindustrien. De tjener som et beskyttende lag for waferbærere, susceptorer og varmeelementer, og beskytter dem mot korrosive og reaktive miljøer som oppstår i prosesser som MOCVD og EPI. Disse prosessene er integrert i wafer-prosessering og enhetsproduksjon. I tillegg er beleggene våre godt egnet for bruk i vakuumovner og prøveoppvarming, der miljøer med høyt vakuum, reaktive og oksygen forekommer.


Hos VeTek Semiconductor tilbyr vi en omfattende løsning med våre avanserte maskinverksteder. Dette gjør oss i stand til å produsere basiskomponentene ved hjelp av grafitt, keramikk eller ildfaste metaller og påføre SiC eller TaC keramiske belegg internt. Vi tilbyr også beleggtjenester for kundeleverte deler, noe som sikrer fleksibilitet for å møte ulike behov.


Våre silisiumkarbidbeleggprodukter er mye brukt i Si-epitaksi, SiC-epitaksi, MOCVD-system, RTP/RTA-prosess, etseprosess, ICP/PSS-etseprosess, prosess av forskjellige LED-typer, inkludert blå og grønn LED, UV LED og dyp-UV LED etc.,som er tilpasset utstyr fra LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI og så videre.


Reaktordeler vi kan gjøre:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Silisiumkarbidbelegg flere unike fordeler:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



VeTek Semiconductor Silicon Carbide Coating Parameter

Grunnleggende fysiske egenskaper til CVD SiC-belegg
Eiendom Typisk verdi
Krystallstruktur FCC β-fase polykrystallinsk, hovedsakelig (111) orientert
SiC-belegg Tetthet 3,21 g/cm³
SiC-belegg Hardhet 2500 Vickers hardhet (500 g belastning)
Kornstørrelse 2~10μm
Kjemisk renhet 99,99995 %
Varmekapasitet 640 J·kg-1·K-1
Sublimeringstemperatur 2700 ℃
Bøyestyrke 415 MPa RT 4-punkts
Youngs modul 430 Gpa 4pt bøyning, 1300 ℃
Termisk ledningsevne 300 W·m-1·K-1
Termisk ekspansjon (CTE) 4,5×10-6K-1

CVD SIC FILM KRYSTALL STRUKTUR

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



View as  
 
Kjemisk dampavsetningsprosess Solid Sic Edge Ring

Kjemisk dampavsetningsprosess Solid Sic Edge Ring

Vetek Semiconductor har alltid vært forpliktet til forskning og utvikling og produksjon av avanserte halvledermaterialer. I dag har Vetek Semiconductor gjort store fremskritt i kjemisk dampavsetningsprosess Solid SiC Edge Ring -produkter og er i stand til å gi kundene svært tilpassede solide SIC -kantringer. Solide SIC -kantringer gir bedre etsnings ensartethet og presis plateposisjonering når de brukes med en elektrostatisk chuck, noe som sikrer konsistente og pålitelige etsningsresultater. Ser frem til din henvendelse og blir hverandres langsiktige partnere.
Solid SiC Etching Fokusering Ring

Solid SiC Etching Fokusering Ring

Solid SiC -etsningsfokuseringsring er en av kjernekomponentene i skivets etsningsprosess, som spiller en rolle i å fikse wafer, fokusere plasma og forbedre ensartet av skiven. Som den ledende SIC -fokuseringsprodusenten i Kina, har Vetek Semiconductor avansert teknologi og moden prosess, og produserer solid SIC -etsningsfokusering som fullt ut oppfyller behovene til sluttkunder i henhold til kundekrav. Vi ser frem til din henvendelse og blir hverandres langsiktige partnere.
Som profesjonell Silisiumkarbidbelegg produsent og leverandør i Kina har vi vår egen fabrikk. Enten du trenger tilpassede tjenester for å imøtekomme de spesifikke behovene i regionen din eller ønsker å kjøpe avansert og holdbar Silisiumkarbidbelegg laget i Kina, kan du gi oss en melding.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept