Denne artikkelen introduserer produktegenskapene til CVD TAC -belegg, prosessen med å fremstille CVD TAC -belegg ved bruk av CVD -metoden, og den grunnleggende metoden for overflatemorfologideteksjon av det tilberedte CVD TAC -belegget.
Denne artikkelen introduserer produktegenskapene til TAC -belegg, den spesifikke prosessen med å tilberede TAC -beleggprodukter ved hjelp av CVD -teknologi, introduserer Veteksemicons mest populære TAC -belegg, og analyserer kort årsakene til å velge Veteksemicon.
Denne artikkelen analyserer årsakene til at SIC -belegget et sentralt kjernemateriale for SIC -epitaksial vekst og fokuserer på de spesifikke fordelene ved SIC -belegg i halvlederindustrien.
Silisiumkarbid nanomaterialer (SIC) er materialer med minst en dimensjon i nanometerskalaen (1-100nm). Disse materialene kan være null-, en-, to- eller tredimensjonale og har forskjellige bruksområder.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy