Nyheter

Velkommen kunder til å besøke Veteksemicons SIC Coating/ TAC -belegg og epitaxy prosessfabrikk

Kunder besøker fabrikken: Fremme et nytt samarbeidskapittel


Nylig er vi veldig beæret over å motta viktige kunder fra mange regioner over hele verden for å besøke Vetek Semiconductors fabrikk i Kina. Dette besøket lar ikke bare kunder få en grundig forståelse av vår teknologiske innovasjon og produksjonsstyrke innen feltHalvleder epitaxy prosessog halvlederbelegg, men utdyper også vårt samarbeidsforhold til kunder ytterligere.


Tantalum carbide coated epitaxial substrate

Veteksemicon -kunder inspiserer detaljene om tantal karbidbelagte epitaksiale følsomheter


Fabrikkbesøk: Dybde forståelse av produksjonsprosessen


Under besøket viste kundene stor interesse for vårSilisiumkarbidbeleggogTantal karbidbeleggproduksjonslinjer. Vårt FoU -team introduserte de tekniske fordelene med produktene og det strenge kvalitetskontrollsystemet i detalj. Som en ledende produsent av silisiumkarbidbelegg og tantal karbidbelegg, er vi alltid opptatt av å bruke den mest banebrytende teknologien på produktdesign og produksjon for å sikre at enhver komponent oppfyller internasjonale standarder og kan imøtekomme behovene til forskjellige kunder.


LPE SI EPI Susceptor SetCVD SiC coated ceilingUV LED Epi Susceptor


Teknologidisplay: Leder retningen for bransjeutvikling


Under besøket demonstrerte selskapet vårt den siste utvikledeEpitaksial prosessløsning, som dekker den komplette prosessen fra design, produksjon til kvalitetsinspeksjon. Innovasjonsevnen vår har blitt anerkjent av kunder, og de er fulle av forventninger til fremtidig samarbeid. Spesielt innen halvlederbelegg applikasjoner, fremmer Vetek Semiconductor kontinuerlig utviklingen av industrien med sine unike tekniske fordeler og markedsinnsikt.

CVD TaC Coating CarrierTaC Coating Rotation PlateCVD TaC coating planetary SiC epitaxial susceptor


Fremtidsutsikter: utdyping av samarbeid og vinn-vinn fremtid


Dette kundebesøket er ikke bare en anerkjennelse av vår produksjonsstyrke, men legger også et solid grunnlag for det langsiktige samarbeidet mellom de to partiene i fremtiden. Vi tror at med begge parters felles innsats vil vi oppnå mer fruktbare resultater innen feltethalvleder epitaxy prosessog halvlederbelegg i fremtiden.


Relaterte nyheter
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept